2025年2月25日，华中师范大学美术学院设计学交叉学科平台师生一行前往湖北九峰山实验室参观交流，此次行程收获颇丰，为学院与实验室之间的合作奠定了良好基础。

九峰山实验室自成立以来，始终聚焦化合物半导体领域，致力于突破国外技术封锁，推动国内化合物半导体产业的发展。实验室成功实现了国内首次异质集成 “芯片出光”，填补了我国光电子领域的空白。该技术采用九峰山实验室自研异质集成技术，在 8 寸 SOI 晶圆内部完成了磷化铟激光器的工艺集成，有效解决了传统硅光芯片耦合效率不够高、对准调节时间长、对准精度不够好的工艺问题，突破了制作成本高、尺寸大、难以大规模集成等量产瓶颈。

此外，实验室还打破了外国垄断，实现了碳化硅沟槽型 MOSFET 从自主 IP 设计到成套工艺的中国方案，充分彰显了九峰山实验室在自主研发领域的高超水平。九峰山实验室的这些成果，不仅为我国化合物半导体产业的发展提供了有力支撑，也为全球化合物半导体领域的技术创新做出了重要贡献。

在实验员的引导下，师生一行深入了解了九峰山实验室的起源、发展以及未来方向。随后，大家近距离参观了半导体材料的生产线。生产线上的精密仪器和工作人员的熟练操作，展示了九峰山实验室在化合物半导体领域的强大实力。从晶圆的氧化、光刻、刻蚀，到沉积、离子注入、金属布线，再到电气检测和封装，整个生产过程严谨而高效。其中，光刻机、刻蚀机、化学气相沉积设备、离子注入机、电子束蒸发仪等关键仪器，为化合物半导体材料的制造提供了有力保障。这些先进设备和精湛工艺，使大家对化合物半导体的制造流程有了更清晰的认识。

参观结束后，郑达院长与湖北九峰山实验室主任丁琪超等科研人员进行了深入交流。双方就艺术与科技的融合、设计学交叉学科人才培养、科研合作等方面展开了热烈讨论，达成了多项共识。

丁主任表示，艺术与科技的融合具有广阔的发展前景，双方可以在多个领域开展合作，共同探索艺术与科技的交叉点。

郑达院长介绍了华中师范大学美术学院交叉学科平台的特色和优势，双方探讨了如何在艺术与科技的交叉领域开展合作，为培养具有创新精神和实践能力的高素质人才提供新的思路和方法。此次交流不仅加深了双方的了解和友谊，也为未来的合作奠定了坚实基础。